簡介

EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術(shù)（ECR）的小型離子束蝕刻系統(tǒng)，特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄，清洗、沉積等。

EIS-200原理：

利用ECR技術(shù)產(chǎn)生高能Ar+離子束，Ar+離子束通過電場加速到達(dá)樣品表面，對樣品進(jìn)行物理的轟擊達(dá)到刻蝕作用。

EIS-200具有以下優(yōu)點(diǎn)：

方向性好，各向異性，陡直度高，側(cè)向刻蝕少

分辨率高

不受刻蝕材料限制，可對石英等材料進(jìn)行蝕刻

可控制蝕刻Taper角

可以設(shè)定多樣的實(shí)驗(yàn)條件

NPD(納米圖案成膜單元)選項(xiàng)（如下圖）

主要功能

納米級圖案刻蝕

高深寬比蝕刻

離子束沉積

表面清潔

離子減薄

技術(shù)能力

應(yīng)用

納米級圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等

SiO2 on Si substrate

Diamond Substrate（金剛石）

Quartz (Mask)

Oriented PET film