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KLA白光共聚焦顯微鏡輪廓儀ZETA-20

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產(chǎn)品特點(diǎn)

非接觸式優(yōu)點(diǎn)就是測量裝置探測部分不與被測表面的直接接觸,保護(hù)了測量裝置,同時(shí)避免了與測量裝置直接接觸引入的測量誤差。
Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀集成了六種光學(xué)計(jì)量技術(shù)。 ZDot 測量模式同時(shí)采集高分辨率 3D 掃描和真彩色無限對(duì)焦圖像。其他測量技術(shù)包括白光干涉法、Nomarski 干涉對(duì)比顯微鏡和剪切干涉法。 Zeta-20 也可用于樣品審查或自動(dòng)缺陷檢測。

詳細(xì)介紹

Zeta-20 三維光學(xué)輪廓儀的典型應(yīng)用:

?MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))?光伏太陽能電池?微流體設(shè)備?數(shù)據(jù)存儲(chǔ)磁盤倒邊?激光打孔?半導(dǎo)體晶圓級(jí)芯片級(jí)封裝

可以進(jìn)行表面粗糙度測量,缺陷檢測,膜厚測量等多種功能。

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多功能光學(xué)測試模組

?*ZDot點(diǎn)陣三維成像技術(shù)與強(qiáng)大的算法相結(jié)合,輕易獲得各種樣品表面信息生成高分辨率 3D 數(shù)據(jù)。

?ZIC 干涉反襯成像技術(shù),實(shí)現(xiàn)納米級(jí)粗糙度表面的成像及分析。

?ZSI 白光差分干涉技術(shù),垂直方向分辨率可達(dá)埃級(jí)。

?ZX5 白光干涉技術(shù),大視場下納米級(jí)高度的理想測量技術(shù)。

?ZFT 反射光譜膜厚分析技術(shù),集成寬頻反射光譜分析儀,可測量 薄膜材料的厚度、折射率和反射率。

Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀優(yōu)點(diǎn):

?多功能——能夠在任何表面上進(jìn)行多次測量

?特定應(yīng)用軟件和算法

?對(duì)振動(dòng)和樣品傾斜不敏感

?高光通量設(shè)計(jì)——實(shí)現(xiàn)其他系統(tǒng)無法進(jìn)行的測量

?易于使用——用戶可以快速啟動(dòng)和運(yùn)行

混合反射率表面測量:在太陽能電池表面氮化物涂層上的銀。銀反射率大于90%,氮化物反射率小于1%,兩者反射率差非常大,Zeta-20高動(dòng)態(tài)范圍可輕松測量混合反射率表面。

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激光切割:測量 LED 設(shè)備上激光切割的深度。在非常低的對(duì)比度,高粗糙度的表面測量。 測量空腔邊緣的材料堆積,以確定它是否已流出劃線區(qū)域并流入 LED 器件的有源 區(qū)域。

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