離子束刻蝕系統(tǒng)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

離子束刻蝕系統(tǒng)的基本原理是利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子，氬離子經(jīng)過陽極電場(chǎng)的加速對(duì)樣品表面進(jìn)行物理轟擊，以達(dá)到刻蝕的作用。把Ar氣充入離子源放電室并使其電離形成等離子體，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，具有一定能量的離子束進(jìn)入工作室，射向固體表面轟擊固體表面原子，使材料原子發(fā)生濺射，達(dá)到刻蝕目的，屬純物理刻蝕。

主要技術(shù)指標(biāo)：

1.極限真空：9′10-5Pa

2.刻蝕均勻性與重復(fù)性：3英寸襯底均勻性優(yōu)于±5% ，重復(fù)性優(yōu)于±5%

3.刻蝕速率:200nm/min

4.基片尺寸：≤4英寸

5.刻蝕氣體：:Ar

主要用途

主要用于金屬材料的刻蝕

公司主要研發(fā)、制造和銷售的檢測(cè)儀器有：電壓擊穿試驗(yàn)儀、高壓漏電起痕試驗(yàn)儀、耐電弧試驗(yàn)儀、鐵電材料測(cè)試儀器、介電常數(shù)及介質(zhì)損耗測(cè)試儀、表面及體積電阻率測(cè)試儀、壓電材料測(cè)試儀器、熱電材料測(cè)試儀器、絕緣材料電性能檢測(cè)設(shè)備、高溫管式爐\反射爐\氣氛爐、高溫電性能測(cè)試設(shè)備、Huace靜電檢測(cè)儀器、硅橡膠\絕緣子行業(yè)測(cè)試設(shè)備、PCB\三防漆電子材料測(cè)試、電氣薄膜電學(xué)檢測(cè)儀器、高低壓電氣材料測(cè)試設(shè)備、電線電纜行業(yè)電學(xué)測(cè)試設(shè)備、高分子材料電學(xué)測(cè)試儀器、熱分析儀器、電氣安規(guī)檢測(cè)儀器、半導(dǎo)體芯片類測(cè)試儀器等，可接定制儀器訂單。