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無液氦低溫STM/qPlusAFM系統(tǒng)

品牌：美國RHK Technology
型號(hào)： UHV LT STM/ AFM-qPlus
產(chǎn)地：美洲美國
供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議

QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易（北京）有限公司更新時(shí)間：2025-04-28 10:19:37

銷售范圍售全國

入駐年限第10年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品表面成像(40件)

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產(chǎn)品特點(diǎn)

美國RHK Technology公司突破了制冷機(jī)與STM結(jié)合時(shí)，存在極強(qiáng)震動(dòng)噪音的技術(shù)壁壘，推出了首款無液氦UHV LT STM/ AFM-qPlus系統(tǒng)。在制冷機(jī)運(yùn)行的狀態(tài)下(<9K)，輕松獲得原子級(jí)分辨率的掃描隧道顯微圖像。簡(jiǎn)單易用的機(jī)械和軟件設(shè)計(jì)，不需要掌握復(fù)雜的STM技術(shù)和低溫制冷方法，輕松開展材料科學(xué)和表面物理前沿科學(xué)研究，讓低溫STM真正走進(jìn)您的實(shí)驗(yàn)室。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品特點(diǎn)：

- 無需任何液氦，樣品和探針始終處于相同溫度;
- 全溫區(qū)范圍實(shí)現(xiàn)STM原子級(jí)分辨圖像；在制冷機(jī)運(yùn)行狀態(tài)下，噪音水平低于1pm；
- 工作模式有STM和AFM-qPlus，具有強(qiáng)大的譜圖采集和分析能力；自帶PLL和Lock-in，實(shí)現(xiàn)I-V，dI/dV以及dI2/dV2譜線采集和譜圖成像;
- 樣品架靈活配置：樣品尺寸10x10mm，可外接4個(gè)電路；
- 僅需日常用電，運(yùn)行和維護(hù)成本極低。徹底擺脫低溫STM實(shí)驗(yàn)受液氦供應(yīng)制約的煩惱。不再需要掌握復(fù)雜的液氦操作和安全知識(shí)，連續(xù)不間斷地進(jìn)行低溫STM實(shí)驗(yàn)研究。

- 適用于與UFO腔體/MBE/PLD/LEED/APERS等儀器實(shí)現(xiàn)真空聯(lián)用。

基本參數(shù)：
- 溫度范圍 9K-400K;
- XY方向漂移: 0.2?/hour，Z方向漂移: 0.2?/day;
- XYZ方向粗位移范圍：5x5x8mm@RT
- 極大掃描范圍：

8x8x1.5um@RT；2x2x0.5um@10K;

- 垂直樣品方向5T磁場(chǎng)或垂直-平行樣品方向5T-1T矢量磁場(chǎng)

應(yīng)用領(lǐng)域：

? 二維材料，納米科學(xué)，表面物理化學(xué)等；

? STM：導(dǎo)電樣品形貌、電學(xué)性能（電導(dǎo)、電子態(tài)密度、能帶、軌道）、磁學(xué)性能（近藤效應(yīng)、自旋反轉(zhuǎn)）、化學(xué)鍵振動(dòng)表征，原子或分子操縱，納米結(jié)構(gòu)的建造

? AFM：導(dǎo)電或不導(dǎo)電樣品形貌表征，力學(xué)性能,電荷分布（局部接觸勢(shì)）

測(cè)試數(shù)據(jù)展示：


In摻雜Bi2Se3原子分辨STM圖像@15K	Si(111)表面原子分辨STM圖像@15K

Si(111)表面dI/dV(微分電導(dǎo)) mapping

部分應(yīng)用案例：


案例1： Oregon University的George Nazin教授利用掃描隧道顯微（STM）和掃描隧道譜學(xué)（STS）技術(shù)研究了吸附在Au(111)表面上的烷基取代噻吩低聚物的構(gòu)象和電子結(jié)構(gòu)，發(fā)現(xiàn)Au(111)表面反應(yīng)活性的局部變化可以導(dǎo)致分子軌道能級(jí)的明顯變化（上圖，DOI: 10.1021/acsami.5b03516）。這些結(jié)果表明，界面分子的構(gòu)象和電子結(jié)構(gòu)可能與基于塊狀噻吩晶體的能帶結(jié)構(gòu)而預(yù)期的性能有很大的不同。		案例2：荷蘭Leiden University的Marc T. M. Koper教授通過原子分辨的STM圖像發(fā)現(xiàn)了兩條由水分子組成的平行線沿Pt(111)臺(tái)階邊緣排布（右圖，DOI: 10.1103/ PhysRevLett.116.136101），并驗(yàn)證了Pt(111)的模板作用，確認(rèn)形成了雙鏈水的結(jié)構(gòu)。這些結(jié)果突出表明了Pt表面電子波紋對(duì)吸附在其表面的水結(jié)構(gòu)的巨大影響。

部分用戶列表（排名不分先后）

RHK公司PanScan Freedom產(chǎn)品以其技術(shù)duchuang性和穩(wěn)定性、極高的精度和良好的用戶體驗(yàn)得到了國內(nèi)外眾多科學(xué)家的認(rèn)可和青睞，在全球范圍內(nèi)已有超過了20位用戶。RHK公司的產(chǎn)品在國內(nèi)也得到了表面科學(xué)、低溫、真空等研究領(lǐng)域著名科學(xué)家和研究組的歡迎......

復(fù)旦大學(xué)
中科院物理研究所	天津大學(xué)
香港理工大學(xué)	Harvard University
Standard Linear Accelerator Center (SLAC), USA	Princeton University, USA
University of Oregonpasting，USA	Leiden University, Nertherland
......

用戶發(fā)表的文章：

1. Lee E. Korshoj et al. Nature comm. 8:14231, 2017.
2. Benjamen N. Taber et al. ACS Appl. Mater. Interfaces 2015, 7, 15138?15142.
3. Dmitry A. Kislitsyn et al.J. Phys. Chem. C 2015, 119, 26959?26967.
4. Christian F. Gervasi et al.Nanoscale, 2015, 7, 19732–19742.
5. Manuel J. Kolb et al.PRL 116, 136101 (2016).
6. J. Derouin et al.Surface Science 641 (2015) L1–L4.
7. Jason D. Hackley et al.REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 85, 103704 (2014).
8. Dmitry A. Kislitsyn et al.J. Phys. Chem. Lett. 2016, 7,1047?1054.
9. D. A. Kislitsyn et al.Phys. Chem. Chem. Phys., 2016, 18, 4842--4849.
10. Dmitry A. Kislitsyn et al.J. Phys. Chem. Lett. 2014, 5, 3701?3707
11. Jonathan Derouin et al.ACS Catal. 2016, 6, 4640?4646.
12. Dmitry A. Kislitsyn et al.J. Phys. Chem. Lett. 2014, 5, 3138?3143.