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產(chǎn)品中心

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梅特勒-托利多實時粒徑與粒數(shù)分析儀 ParticleTrack G400

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產(chǎn)品特點

FBRM 是一項達到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的測量技術(shù),可用于在線測量顆粒。 無需取樣或樣品制備,即可實時報告對于顆粒粒徑和粒數(shù)敏感的高度精確的弦長分布(CLD)。 不會對形狀進行假設(shè),并且可在全工藝濃度下對不透明或半透明漿體和乳液進行測量。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡介

ParticleTrack G600/G600 Ex

在中試和生產(chǎn)中監(jiān)控粒度和粒數(shù)

采用FBRM 技術(shù)的 ParticleTrack G600 是直接插入到大型容器或管道中的堅固探頭式儀器,以便在全工藝過程濃度下實時追蹤顆粒粒徑及粒數(shù)變化。 隨著過程參數(shù)的變化,持續(xù)監(jiān)測顆粒、顆粒結(jié)構(gòu)和液滴允許工程師有效地監(jiān)控、解決并改進過程。

顆粒粒徑與粒數(shù)直接影響多相工藝中的性能,包括:

  • 結(jié)晶

  • 乳化

  • 絮凝

通過在全生產(chǎn)規(guī)模下實時監(jiān)測顆粒粒徑與粒數(shù),工程師可以監(jiān)控過程的一致性并確定進行過程改進的策略。

在為離線分析進行采樣和制備時,顆粒可能發(fā)生變化。 通過追蹤過程中自然存在的顆粒粒徑與粒數(shù)的變化,工程師能夠在全生產(chǎn)規(guī)模下安全且無延遲地了解工藝過程 – 甚至是在極端溫度與壓力條件下。

隨著操作條件的變化,通過連續(xù)監(jiān)測顆粒,能夠確定過程性能不佳的根本原因。 操作人員可以快速識別過程擾動,工程師可以利用在全生產(chǎn)規(guī)模下獲得的證據(jù),重新設(shè)計具有挑戰(zhàn)性的過程并加以改進。

靈活的安裝系統(tǒng)允許在各種溫度和壓力下,使用標(biāo)準(zhǔn)法蘭、套管和球閥在反應(yīng)器或管道中安裝探頭。 額定為 ATEX 和 I 級 1 區(qū)標(biāo)準(zhǔn)的可選吹掃外殼確保儀器可以在易爆場所進行安全安裝。

image.png


技術(shù)參數(shù)

規(guī)格 - ParticleTrack G600/G600 Ex
測量范圍0.5 – 2000μm
溫度范圍(主機/現(xiàn)場裝置)G600: 0至45°C; G600Ex: 0至40°C
主機說明不銹鋼 316, 防水防塵4X, IP66級
主機尺寸(高x寬x長)524 mm x 828 mm x 284 mm
認(rèn)證CE 認(rèn)證, 1 類激光, NRTL 認(rèn)證, CB Scheme 認(rèn)證
電源要求100-240VAC, 50/60Hz, 0.5A
適用于中試工廠或生產(chǎn)
軟件iC FBRM (標(biāo)準(zhǔn)); 用于 FBRM 的 iC Process (可選)
掃描系統(tǒng)氣動
掃描速度2m/s
弦長選擇方法(CSM)Primary(精細(xì))和 Macro(粗糙)
探頭直徑25mm
探頭浸濕長度R: 400mm; T: 400m; P: 1000mm; X: 自定義
探頭浸濕合金SS316 (標(biāo)準(zhǔn)); C22 (可選)
窗口(W)藍寶石
標(biāo)準(zhǔn)窗口封條Kalrez?
探頭/窗口選件TM 窗口; 電拋光
額定壓力(探頭)10barg (標(biāo)準(zhǔn)); 高達 250barg (自定義)
額定溫度(探頭)-10 至 120°C (標(biāo)準(zhǔn)); -80 至 150°C (自定義)
導(dǎo)管長度15m [49.2ft] (標(biāo)準(zhǔn)); 20m [65.6ft](自定義)
空氣要求掃描儀要求: 最小壓力: 4barg [60psig]; 流量: 28.3 NL/min [1.0SCFM]
ParticleTrack型號適用于中試工廠/生產(chǎn)的 ParticleTrack G600 加工技術(shù)
G600認(rèn)證CE 認(rèn)證, 1 類激光, NRTL 認(rèn)證, CB Scheme 認(rèn)證
G600Ex認(rèn)證ATEX / IECEx Zone 1/21和Class 1 Div 1認(rèn)證、CE認(rèn)證、1級激光設(shè)備、NRTL認(rèn)證
吹掃要求(僅G600 Ex)壓力: 4至8barg(60-120 psig); 流量: 225 SLPM(8.0 SCFM)
物料號 (s)14422846, 14422847


功能特點


建立適用型顆粒系統(tǒng)

科研人員利用ParticleTrack確定如何始終如一地提供具有所需粒徑和粒數(shù)的顆粒。 在研發(fā)到放大生產(chǎn)直至投付生產(chǎn)的過程中,通過選擇**的工藝參數(shù),科研人員可以較低的總成本將高質(zhì)量顆粒產(chǎn)品更快速推向市場,并通過基于數(shù)據(jù)的方法實現(xiàn)改進。 



借助 ParticleTrack將過程與顆粒系統(tǒng)相關(guān)聯(lián)

,科學(xué)家可以定期確定過程參數(shù)如何影響顆粒系統(tǒng)。 可以確定過程參數(shù)對生長、團聚、破損和形狀變化等機制的影響,從而可以使用基于證據(jù)的方法對過程進行優(yōu)化和改進。

實時研究顆粒粒徑與粒數(shù)
科學(xué)家將 ParticleTrack 探頭直接插入到過程流體中,以長時間連續(xù)監(jiān)測顆粒粒徑與粒數(shù),而無需采樣。 這種獨特的信息成為有效了解涉及晶體、顆粒和液滴的過程的基礎(chǔ)。    

技術(shù)資料

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