儀器簡介：

1996年以來，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學(xué)和化學(xué)分析上，研發(fā)和提供了獨(dú)特的，先進(jìn)的解決方案?？泼溃鳛闇y量和分析技術(shù)市場上的領(lǐng)頭和動力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認(rèn)可。

技術(shù)參數(shù)：

活動范圍 300mm x 300mm
測量范圍 100~ 35(Depends on Film Type)
光斑尺寸 40/20,4(option)
測量速度 1~2 sec./site (fitting time)
應(yīng)用領(lǐng)域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement
Intended for Large Size Wafer Measure
選擇 Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST)
Anti-vibration table
接物鏡轉(zhuǎn)換器 Quintuple Revolving Nosepiecs
焦點(diǎn) Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附帶照明 12v 100W Halogen Lamp

主要特點(diǎn)：

標(biāo)準(zhǔn)模型
工業(yè)規(guī)格
自動的X-Y平臺
自動調(diào)焦
半導(dǎo)體和裂變產(chǎn)物探測

尺寸 500 x 750 x 650 mm
重量 80Kg
類型 自動
測量型號 ≤ 4"
測量方法 無連接的
測量原理 反射計(jì)
特征

測量迅速，操作簡單
非接觸式，非破壞方式
的重復(fù)性和再現(xiàn)性
2D/3D 映射和造型
自動機(jī)械活動控制
電荷耦合器件照相機(jī)
自動調(diào)焦