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韓國(guó)Nanobase Xper WLI 白光干涉儀

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詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹:

       Xper WLI 是一款用于對(duì)各種精密器件及材料表面進(jìn)行亞納米級(jí)測(cè)量的檢測(cè)儀器。它是以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對(duì)器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,通過(guò)系統(tǒng)軟件對(duì)器件表面3D圖像進(jìn)行數(shù)據(jù)處理與分析,并獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù),從而實(shí)現(xiàn)器件表面形貌3D測(cè)量的光學(xué)檢測(cè)儀器。


優(yōu)勢(shì):

價(jià)格優(yōu)勢(shì):市場(chǎng)上極具性價(jià)比的白光干涉儀。

簡(jiǎn)單易用:只需將樣品放置于樣品臺(tái)上,即可直接進(jìn)行測(cè)量;

可以測(cè)量非接觸式非平坦樣品:由于光學(xué)輪廓測(cè)量法是一種非接觸式技術(shù),可以輕松測(cè)量彎曲和其他非平面表面。還輕松地測(cè)量曲面的表面光潔度,紋理和粗糙度。除此之外,作為一種非接觸式方法光學(xué)輪廓儀不會(huì)像探針式輪廓儀那樣損壞柔軟的薄膜。

無(wú)需更換耗材:只需要一個(gè)LED光源,無(wú)需其他配件更換;

可視化3D功能:Xper WLI輪廓儀具有強(qiáng)大的處理軟件,軟件除包括表面粗糙度,形狀和臺(tái)階高度的測(cè)量外,還可以任意角度移動(dòng)樣品量測(cè)三維圖形,多角度分析樣品圖像。


應(yīng)用領(lǐng)域:

納米尺度的厚度和輪廓檢測(cè)

WLI和PSI模式轉(zhuǎn)換

工業(yè)應(yīng)用:樣品和輪廓檢測(cè)

樣品類型:半導(dǎo)體晶圓,納米器件,生物材料,MEMS:微電子機(jī)械系統(tǒng),lED發(fā)光二極管



規(guī)格

原理:白光干涉原理

用途:表面三維剖面測(cè)量,表面粗糙度測(cè)量

Z軸分辨率:1.75nm 

ccd 分辨率:2464*2056

掃描范圍:30 μm

物鏡:10X, 20X, 50X, 100X

照明:LED

PSI模式濾光片組件:532,633nm(可見(jiàn)光范圍:400-750nm) 

軟件功能:自動(dòng)實(shí)驗(yàn)條件設(shè)置

后期處理:平滑處理/ z軸控制因子設(shè)置/偏移控制,X / Y軸輪廓提取


成像案例:

半導(dǎo)體器件


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