用于光學(xué)薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源。

電子束蒸鍍法的特征

用電子束直接照射鍍膜材料進(jìn)行加熱，因此熱效率高，能蒸發(fā)高熔點(diǎn)金屬、氧化物、化合物、升華性物質(zhì)等各種材料。

鍍膜材料在水冷銅坩堝內(nèi)(*)被直接加熱，因此不會(huì)象電阻加熱式或感應(yīng)加熱式那樣與坩堝發(fā)生反應(yīng)。
*可能需要使用坩堝內(nèi)襯。

能迅速控制輸出，因而能精確地控制膜厚。

與濺射法及 CVD 法相比，能快速鍍膜是一大特征。
對(duì)形成1μm 以上的厚膜也很有效。

日本電子制造的電子槍/電源的特征

[ 氧化物 ]

電子束垂直照射鍍膜材料，束斑近似圓形，具有能量密度高的特征。此外，由于標(biāo)準(zhǔn)配備了快速掃描功能，非常適合蒸鍍?nèi)邳c(diǎn)高、熱傳導(dǎo)性低的氧化物及升華性材料，能獲得良好的熔痕，大面積的鍍膜區(qū)域上膜厚分布均勻，重現(xiàn)性好。

[ 金屬 ]

坩堝的選擇范圍很大，能進(jìn)行多種、大量、高速率的蒸鍍，還有用來(lái)YZ成膜時(shí)溫度上升的剝離工藝用電子槍。

[ 合金復(fù)合膜 ]

往臨近的兩個(gè)或三個(gè)坩堝內(nèi)充填不同的材料，使用專(zhuān)用的掃描控制器進(jìn)行雙源或三源蒸發(fā)，可以形成合金膜和復(fù)合膜。