美國 OAI 光刻機(jī):
Model  200 手動曝光機(jī),實(shí)驗(yàn)室用 ,
Model 800MBA 雙面曝光機(jī), 實(shí)驗(yàn)室及小批量生產(chǎn),
Model  2000 全自動邊緣曝光系統(tǒng),生產(chǎn)型
Model  5000 全自動曝光機(jī),生產(chǎn)型

OAI 200型光刻機(jī)是一種具有成本效益的高性能掩模對準(zhǔn)器，采用經(jīng)過行業(yè)驗(yàn)證的組件，使OAI成為光刻設(shè)備行業(yè)的領(lǐng) 導(dǎo)者。 200型是臺式面罩對準(zhǔn)器，需要最小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點(diǎn)生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調(diào)平系統(tǒng)，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對準(zhǔn)和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)一微米分辨率和對準(zhǔn)精度。

對準(zhǔn)模塊具有掩模插入件組和快速更換晶片卡盤，其便于使用各種襯底和掩模，而不需要用于重新配置的特殊工具。對準(zhǔn)模塊包括X，Y和Z軸的微米。

200型掩模對準(zhǔn)器具有可靠的OAI紫外光源，其在近紫外或深紫外中提供準(zhǔn)直的紫外光，使用功率從200至2000瓦的燈。雙傳感器，光學(xué)反饋回路連接到恒定強(qiáng)度控制器，以提供在所需強(qiáng)度的±2％內(nèi)的曝光強(qiáng)度的控制?？梢钥焖俸腿菀椎馗淖僓V波長。該掩模Aligner是一種靈活，經(jīng)濟(jì)的解決方案，適用于任何入門級掩模對準(zhǔn)和UV紫外光照射應(yīng)用.

OAI在MEMS和微流體裝置方面的產(chǎn)品主要包括 : 

光刻機(jī)        

光源

以工作穩(wěn)定，出光效率高，高均勻性和散射角小而著稱。且可提供 20” 以上的大面積光源。

光功率計(jì)及分析儀

OAI光功率計(jì)以其測量精度，重復(fù)性著稱。測量數(shù)據(jù)符合美國NIST標(biāo)準(zhǔn)。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻能量測量及控制。