Nanoscribe第一款工業(yè)級高速灰度光刻微納打印系統 - Quantum X

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統 Quantum X ，并榮獲創(chuàng)新獎。該系統是世界No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。該系統的面世代表著Nanoscribe已進軍現代微加工工業(yè)領域。具有全自動化系統的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業(yè)需求。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統技術要點

這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到jing準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的卓越性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高端復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統 - 多種獨特智能化解決方案：
·配備自動識別匹配不同物鏡，樣品架以及樹脂的功能，有助于樣品制備和硬件配置之間的切換，從而加快整個工作流程。

·配備從始至終的智能軟件向導功能，以簡化從最初準備到創(chuàng)建打印作業(yè)的整個流程。

·配備三個實時監(jiān)控攝像頭可同時監(jiān)管打印作業(yè)并支持直觀操作。現在用戶可以直接在內置觸控屏上隨時檢查作業(yè)狀態(tài)，控制打印過程并可隨時顯示和調整打印效果。

技術參數

產地：德國全進口

打印技術：雙光子灰度光刻 （2GL)

三維橫向特征尺度：160nm

**分辨率：400nm

最小表面粗糙度：≤10nm

激光掃描速度：≤250mm/s

納糯三維科技（上海）有限公司作為Nanoscribe全資子公司擴大了銷售范圍，并加強了售后服務支持。