桌面型紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)是全球首kuan裝備有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜對(duì)準(zhǔn)器中的理想冷光源紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)。能夠在4英寸工作面積上實(shí)現(xiàn)2微米微結(jié)構(gòu)，對(duì)準(zhǔn)精度高達(dá)3微米，廣泛用于光刻掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光，適用于微流體芯片，微電子，光學(xué)微結(jié)構(gòu),MEMS等微納器件的光刻制作。

技術(shù)參數(shù)

• 分辨率：2微米

• 接收掩膜大小：5英寸 （2英寸可選）

• 接收襯底大?。?-4英寸， 50x50mm 到 100x100mm

• 系統(tǒng)可視分辨率：3微米 （1.5微米可選）

• 掩膜/襯底測(cè)量距離分辨率：0.5微米

• theta襯底位移分辨率：5.10-4度

• XYZ襯底位移分辨率：0.4微米（0.2微米可選）

• 波長(zhǎng)：365nm 或 405nm

• 功率密度：35mW/cm^2

• 曝光中襯底升溫：<1攝氏度

• 曝光時(shí)間：1秒到18小時(shí)

• 可編程曝光循環(huán)：>100個(gè)

• 尺寸：475x475x478mm

• 重量：55kg

• 觸摸屏：15.6寸彩色觸摸屏

• 電力要求：220V

• 用電功耗：180W