JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。

zuixianjin的技術實現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。

是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統(tǒng)

利用步進重復式曝光的優(yōu)點，結合曝光劑量調(diào)整功能及重疊曝光等功能，能支持下一代掩模版/中間掩模版（mask/reticle）圖形制作所需要的多種補償。