分享 收藏

NIL Technology - 納米壓印機(jī)

品牌：丹麥NIL TECHNOLOGY
型號： NIL
產(chǎn)地：歐洲丹麥
供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議

香港電子器材有限公司更新時(shí)間：2025-05-08 08:58:35

銷售范圍售全國

入駐年限第10年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品納米壓痕機(jī)(2件)

立即掃碼咨詢

聯(lián)系方式：021-63813293

聯(lián)系我們時(shí)請說明在儀器網(wǎng)（m.yn180.com）上看到的!

掃碼分享

為您推薦

NIL Technology - 納米壓印機(jī)

納米壓印機(jī)

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡介

NILT主要產(chǎn)品包括:

- 熱壓和紫外壓印服務(wù)

- 納米壓印模版

- 納米壓印設(shè)備

熱壓和紫外壓印服務(wù)

高分子聚合物中間層壓印技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)納米壓印/熱壓印非平面化的壓印，同時(shí)高分子聚合物中間層的熱塑彈性材料實(shí)現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)移和復(fù)制?？杀Ｗo(hù)昂貴的母板因多次轉(zhuǎn)印而損壞，同時(shí)用于母板的復(fù)制。
材料方面		應(yīng)用方面
Silicon NIL 硅納米壓印模板硅納米壓印光刻用于熱納米壓印光刻或作為母板的聚合物生產(chǎn)。由客戶提供的一項(xiàng)決議規(guī)定下任何圖案分辨率達(dá)20nm納米和寬比可達(dá)1:10。		微透鏡陣列的定制模板模板與凹形或凸形的微透鏡陣列用于通過熱壓印或注塑生產(chǎn)使用。
熔融石英NIL 壓印模板熔融二氧化硅納米壓印光刻模板用于紫外納米壓印光刻技術(shù)。 NILT提供熔融石英模板，由客戶指定的任何模式下低于30nm和寬比可達(dá)1:5。		微流體和LOC墊片通過熱壓印或注塑定制墊片的鎳生產(chǎn)微流體和實(shí)驗(yàn)室級芯片(LOC)系統(tǒng)。
Nickel Shims鎳墊片鎳墊片被用于熱壓印和輥到輥?zhàn)釉O(shè)置。 NILT提供鎳與郵票大小達(dá)600mm x 600mm，厚度降低到50μm。鎳墊片可以用圖形化的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)。
PDMS NIL 壓印模板 PDMS模板是由硅或熔融石英大師鑄造。 NILT提供的PDMS，分辨率降低到100 nm，具有高寬比可達(dá)1：2。
聚合物NIL 壓印模板聚合物納米壓印光刻是由硅或石英玻璃制成的母板，典型地由熱納米壓印光刻工藝。 NILT任何聚合物并與客戶指定的任何模式提供聚合物模板。zui小i 分辨率I50nm，縱橫比可以高達(dá)1:3。
65-壓印模板由熔融二氧化硅和用于紫外線步進(jìn) - 重復(fù)過程。分辨率下降到50 nm，可定任何模式，縱橫比高達(dá)1：5。

納米壓印模版

Microlens Array 微透鏡陣列標(biāo)準(zhǔn)印記含有緊密堆積排列為蜂窩形狀與各個(gè)透鏡之間三維交叉點(diǎn)的微透鏡的結(jié)構(gòu)		直線和圓弧工程風(fēng)口專為一組多功能設(shè)計(jì)擴(kuò)散器的研發(fā)工作，以及對產(chǎn)品和工藝的開發(fā)。
線柵型偏振Wire Grid Polarizer理想的生產(chǎn)線柵偏振器的通過納米壓印光刻，用于測試目的。郵票的特點(diǎn)為 12 mm x 12 mm，50 nm的線條和空間的大型活動(dòng)區(qū)域。		光柵光柵標(biāo)準(zhǔn)壓印成本低，可印鏈路和支柱光柵圖案，客戶可根據(jù)不同規(guī)格來選擇。
防反光Anti-Reflective是大面積和高性價(jià)比的功能標(biāo)準(zhǔn)郵票鎳具有漸變折射率分布，并與不斷變化的有效折射率。		多點(diǎn)模式Multi-Pattern多模式標(biāo)準(zhǔn)壓印是**的納米壓印工藝試驗(yàn)NIL設(shè)備和測試。本標(biāo)準(zhǔn)郵票帶有線寬下降到50nm。
亞微米Sub-Micro標(biāo)準(zhǔn)壓印是**的內(nèi)部納米壓印光刻技術(shù)和熱壓測試和工藝開發(fā)。壓印包含4種不同尺寸和4種不同的模式。		大面積支柱型壓印大面積的支柱標(biāo)準(zhǔn)郵票是在硅谷高品質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的印章與光子晶體和防反射結(jié)構(gòu)的大面積圖案。它有4個(gè)區(qū)域，每次1cm x 1cm，方形陣列的支柱。
Micro Test方形結(jié)構(gòu)陣列500nm非常適合納米壓印光刻技術(shù)和熱壓領(lǐng)域內(nèi)工藝試驗(yàn)。壓印的特點(diǎn)是具有3，5，10和20微米大小的方形石柱/孔陣列		微型標(biāo)準(zhǔn)壓印是**的內(nèi)部納米壓印光刻技術(shù)和熱壓測試和工藝開發(fā)。印模含有3種不同尺寸3個(gè)不同的圖案。
65-Stamps線寬至100nm.		微型注射針頭結(jié)構(gòu)The micro-needle standard stamp 微針標(biāo)準(zhǔn)戳記包含的微針的逆結(jié)構(gòu) - 即微針形孔。微針標(biāo)準(zhǔn)戳記可用于生產(chǎn)微針或者通過熱壓印或鑄造。
Diffraction Grating衍射光柵光柵的間距在這兩種情況下為500nm和光柵的平均深度為250nm。		?

納米壓印設(shè)備

CNI - Thermal NIL Tool

EZI - UV NIL Tool

NIL Simprint Core v2.1 - 仿真軟件

NILT CNI 實(shí)驗(yàn)用納米熱壓印機(jī)是專為實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)和開發(fā)的簡單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設(shè)備，用戶可以通過CNI設(shè)備高效、低成本地實(shí)現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝，許多知名的研發(fā)機(jī)構(gòu)均購買了CNI的設(shè)備。NILT CNI熱壓設(shè)備，占地小、操作簡便，可實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的圖形復(fù)制，可實(shí)現(xiàn)納米熱壓設(shè)備的一切功能，而無需昂貴的工藝設(shè)備。

典型應(yīng)用：