擁有突破性的功能和擴(kuò)展功能，Optima 8000 不僅僅是全球Z受青睞的 ICP-OES 的技術(shù)革新。它是一場(chǎng)技術(shù)革命。
Optima 8000 繼續(xù)延續(xù) PerkinElmer 在 ICP 技術(shù)方面的卓越成就和領(lǐng)xian地位，秉承一貫的設(shè)計(jì)，提供**的分辨率和線性動(dòng)態(tài)范圍。更重要的是，8000 的穩(wěn)定性和檢出限是以往任何ICP 儀器都無(wú)法企及的。

基于可靠的 Optima 平臺(tái)設(shè)計(jì)，在業(yè)界領(lǐng)xian的 Windows 7 兼容 WinLab32 軟件的控制下，8000 將令您對(duì) ICP-OES 刮目相看。 該系列的超凡性能是通過(guò)優(yōu)化進(jìn)樣系統(tǒng)、增強(qiáng)等離子穩(wěn)定性、簡(jiǎn)化方法建立和大大降低操作成本的zui*技術(shù) 實(shí)現(xiàn)的。

各個(gè)實(shí)驗(yàn)室對(duì)最大化利用 ICP 的定義均大不相同。但是，無(wú)論您優(yōu)先考慮的是精密度還是可靠性、是靈活性還是穩(wěn)定性、是分析速度還是使用的簡(jiǎn)便性，您都可以在 Optima 8000系列中找到理想的解決方案。

使用平板等離子體技術(shù)降低氬氣消耗

利用 PerkinElmerZL的平板等離子體技術(shù)，氬氣消耗只有螺旋負(fù)載線圈系統(tǒng)的一半，即可形成同樣強(qiáng)健、同樣耐高鹽基體的等離子體。這種全新的射頻發(fā)生方式，可使射頻發(fā)生器免維護(hù)，從而zui*程度上降低操作成本，同時(shí)不影響性能。平板等離子體技術(shù)在任意RF功率下只需 8 公升/分鐘的等離子體氣流量。

使用 eNeb 樣品導(dǎo)入系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn) 2 到 4 倍的更佳檢出限

使用革新的 eNeb（電子噴霧器）系統(tǒng)，樣品可地更有效、更GX地導(dǎo)入 Optima 中?；诰苤圃斓亩栊試婌F頭，eNeb 可形成直徑不超過(guò) 6 微米的大小一致的液滴。這些大小一致的小液滴可更快速地干燥、霧化和電離，達(dá)到的檢出限比使用其他樣品導(dǎo)入系統(tǒng)可達(dá)到的檢出限好 2 到 4 倍。

eNeb 的噴霧頭采用堅(jiān)固耐用的惰性聚合物制成，提供良好的基體相容性、耐酸性和精確性，是所有樣品類型（包括含有高鹽的樣品類型）的理想選擇。

高級(jí)光學(xué)系統(tǒng)確保的檢出限

為了增強(qiáng)光輸出量，Optima 儀器上的光學(xué)系統(tǒng)提供的檢測(cè)限，更容易滿足美國(guó) EPA、EN 和 DIN 規(guī)定。使用 DynamicWavelength Stabilization（型號(hào) 8000）可確保非凡穩(wěn)定性和分析準(zhǔn)確性。

ZL的等離子雙向觀測(cè)提GX率

可以使用同一種方法測(cè)量高濃度和低濃度的元素，從而提高處理量和效率。

軸向觀測(cè)提供zuidi的檢出限，而徑向觀測(cè)的觀測(cè)高度可變，可擴(kuò)充工作范圍和消除電離效應(yīng)。

獨(dú)特的切割氣消除了干擾

這項(xiàng)革新技術(shù)通過(guò)消除離子的冷尾焰消除了干擾。由于它使用的是空氣，而不是氣體流量極大的抽風(fēng)系統(tǒng)或者易于阻塞需要清洗的接口錐，尾焰切割系統(tǒng)免維護(hù)，可提高性能并使線性動(dòng)態(tài)范圍更大。消除尾焰也從zui*程度上降低了添加昂貴的電離YZ劑的需要。

可快速更換的可調(diào)節(jié)一體化炬管組件可簡(jiǎn)化維護(hù)并優(yōu)化性能

Optima 一體化炬管組件易于調(diào)節(jié)（無(wú)需工具），即使當(dāng) ICP 在運(yùn)行時(shí)也如此，便于優(yōu)化性能，甚至是對(duì)于最難的樣品亦如此。為增加靈活性，該儀器與各種噴霧器和噴霧室兼容，包括 eNeb、Scott/Cross Flow 和 Cyclonic/Meinhard 多種選擇。

實(shí)驗(yàn)室的瓶瓶罐罐，怎么清洗？

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