單色 XPS

雙晶微聚焦單色器帶有 500 mm 羅蘭圓，使用鋁陽(yáng)極（或有雙單色器選項(xiàng)的鋁銀雙陽(yáng)極），測(cè)試光斑尺寸在 200 μm 到 900 μm 范圍內(nèi)可選。 

電子槍

與分析儀輸入透鏡同軸的電子槍用于在使用單色 X 射線源 分析非導(dǎo)電樣品 時(shí)進(jìn)行電荷補(bǔ)償，而 不使用磁透鏡時(shí)， 雙束電子槍產(chǎn)生 兩種 低能離子 ， 以協(xié)助提供有效的電荷補(bǔ)償和低能電子。

透鏡和分析儀

ESCALAB QXi XPS微探針上的透鏡和分析儀系統(tǒng)針對(duì)光譜學(xué)和平行成像進(jìn)行了優(yōu)化；單一分析儀路徑意味著相同的儀器參數(shù)（例如，通過能）可用于譜圖和成像。 

檢測(cè)器

ESCALAB QXi XPS 微探針配備了兩個(gè)檢測(cè)器系統(tǒng)：一個(gè)針對(duì)光譜進(jìn)行了優(yōu)化，由一組六通道電子倍增器組成，另一個(gè)用于平行成像，由一對(duì)通道板和一個(gè)連續(xù)位置敏感探測(cè)器組成。 

離子槍 

ESCALAB QXi XPS 微探針有兩個(gè)選項(xiàng)用于快速、高分辨率的深度剖析：標(biāo)準(zhǔn) EX06 離子槍，針對(duì)單粒子模式離子濺射和離子散射光譜進(jìn)行了優(yōu)化；以及可選的單粒子和團(tuán)簇離子源 MAGCIS，它能夠應(yīng)用于單粒子離子剖析、離子簇剖析和離子散射光譜分析。

數(shù)碼控制

所有分析功能均由基于 Windows 軟件的 Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)控制，這意味著可以根據(jù)需要遠(yuǎn)程執(zhí)行整個(gè)分析過程。 

對(duì)準(zhǔn)和校準(zhǔn)

包含銅、銀和金樣品的標(biāo)準(zhǔn)塊可用于評(píng)估靈敏度、設(shè)置分析儀能量標(biāo)度的線性度、校準(zhǔn)離子源、校準(zhǔn) X 射線單色器以及確定分析儀的轉(zhuǎn)換功能。 

樣品對(duì)齊

樣品臺(tái)上的所有運(yùn)動(dòng)軸均由 Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)控制，儀器上安裝了高分辨率數(shù)碼攝像機(jī)，并與分析位置準(zhǔn)確對(duì)齊。

樣品機(jī)械手

計(jì)算機(jī)控制的 5 軸高精度轉(zhuǎn)換器 (HPT) 可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的樣品對(duì)齊以進(jìn)行分析。當(dāng)與新的自動(dòng)樣品裝載系統(tǒng)結(jié)合使用時(shí)，它可用于自動(dòng)更換樣品架和運(yùn)行預(yù)設(shè)實(shí)驗(yàn)樹。

真空系統(tǒng)

分析室由 5 mm 厚的高導(dǎo)磁合金 構(gòu)成，以最 大限度地提高磁屏蔽效率，并使用渦輪分子泵和鈦升華泵對(duì)分析室進(jìn)行抽氣，使分析室的真空度優(yōu)于 5 x 10-10毫巴。

制備室 

標(biāo)準(zhǔn)前處理室是一個(gè)組合式的樣品入口鎖和制備室，具有可容納各種樣品制備設(shè)備的端口，例如加熱/冷卻探針、離子槍、高壓氣室、樣品停放裝置和氣體入口。 

連接性

測(cè)量坐標(biāo)可以通過Thermo Scientifc Maps軟件從專用顯微鏡系統(tǒng)導(dǎo)入Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)，從而更快地識(shí)別測(cè)量區(qū)域?？梢詫?XPS 光譜和成像數(shù)據(jù)添加至 Maps 軟件中，以便直接比較表面化學(xué)和結(jié)構(gòu)信息。