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GSL-ZDDZS-500電子束蒸鍍

品牌：沈陽科晶
產(chǎn)地：遼寧沈陽
供應(yīng)商報價：面議

沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司更新時間：2025-05-06 12:36:21

銷售范圍售全國

入駐年限第10年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品蒸發(fā)鍍膜(10件)

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詳細介紹

用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作及清理方便的優(yōu)點,還具有蒸鍍速率快，電子束定位準確能量密度高，可以避免坩堝材料的污染等特點。1、由于電子束定位準確能量很高，可蒸發(fā)難熔金屬或化合物，蒸發(fā)速率快；
2、體積小，操作簡便可以非常容易的放置材料和清理；
3、蒸發(fā)材料放置在水冷銅坩堝中，可避免坩堝材料的污染，制備高純薄膜；
4、由于蒸發(fā)物面積小，因而熱輻射損失小，熱效率高；

產(chǎn)品名稱	GSL-ZDDZS-500電子束蒸鍍
產(chǎn)品型號	GSL-ZDDZS-500
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機，水溫小于25℃，水壓0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注純凈水或者去離子水）； 2、電：AC380V 50Hz，功率大于10KW，波動范圍：小于±6％，必須有良好接地（對地電阻小于2Ω）； 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備氮/氬氣氣瓶（自帶?10mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、場地面積：設(shè)備尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要（外排廢氣管道）；
主要參數(shù)	1、極限真空度：≤6.67x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)； 2、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S； 3、系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，45分鐘可達到6.6x10-4 Pa；
基片參數(shù)	1、基片尺寸：可放置φ4″基片（帶手動擋板）； 2、基片加熱ZG溫度 800℃±1℃，由熱電偶閉環(huán)反饋控制； 3、基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5～60轉(zhuǎn)/分； 4、基片與蒸發(fā)源之間距離300～350mm可調(diào)；
電子束蒸發(fā)源參數(shù)	1、E型電子槍，陽極電壓6KV、8KV； 2、電子槍坩堝：水冷銅坩堝，四穴設(shè)計，每個熔煉11ml ； 3、電子束功率0-6KW可調(diào)；
真空腔體	1、U型真空室尺寸Ф500X600mm，選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進行特殊工藝拋光處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封； 2、真空腔體前開門鉸鏈結(jié)構(gòu)，方便取、放樣品； 3、前開門設(shè)有兩個觀察窗接口，可以觀察電子槍和基片； 4、設(shè)備預(yù)留膜厚儀接口，可選配膜厚儀； 5、高真空分子泵機組，閘板閥隔斷（也可使用高真空擋板閥）；
產(chǎn)品規(guī)格	整機尺寸：1800mm×1200mm×2000mm；
標(biāo)準配件	1電源控制系統(tǒng)1套 2真空獲得機組1套 3真空測量1套 4電子槍1套